发光室成功举办第四届全国ZnO学术会议

　　由中国物理学会发光分会主办，中国科学院激发态物理重点实验室和中国科学院长春光学精密机械与物理研究所承办的“第四届全国氧化锌学术会议”，于2009年8月13-15日在吉林省长春市成功举行，大会由会议执行主席、程序委员会主任申徳振研究员主持。

　　氧化锌学术会议是我国氧化锌研究领域每两年举行一次的专题学术会议。本次会议以“认清形势，把握机遇，迎接挑战，勇于突破”为主题，集中展示了近两年来我国在ZnO研究及其应用领域取得的进展和最新成果。会议收录论文摘要132篇，共有来自于全国34个研究单位，以及来自美国，新加坡，香港的180余位代表参加了本次会议。国家自然科学基金委员会数学物理科学处物理科学一处，和工程与材料科学部无机非金属科学处的领导出席了本次会议，并在开幕式上讲话。国内从事ZnO研究的主要单位都有多位代表参会。

　　根据ZnO学科发展的方向以及投稿的情况，第四届全国ZnO学术会议共设4个分会场，分别为ZnO单晶、薄膜和合金结构制备，ZnO掺杂行为，ZnO纳米结构生长与应用，ZnO基光电器件。南京大学的郑有炓院士及在本领域内有重要影响的多位国内外专家，都应邀在本次会议上作了精彩的学术报告。会议报告展示出近年来国内在ZnO研究中取得了一批有特色的研究成果：1) 采用MBE和MOCVD方法分别制备出高Mg的六角相和高Zn的立方相MgZnO合金薄膜，初步解决了MgZnO合金存在的结构分相问题，并成功实现了日盲紫外探测器原型器件；2) 采用不同掺杂剂和方法制备出p-ZnO薄膜，并获得了ZnO基紫外发光和激光器件；3) 在ZnO基纳米材料的生长，以及ZnO纳米材料在生物传感器等方面的应用获得了一批原创性的研究成果；4) ZnO基薄膜晶体管以及透明导电薄膜是ZnO研究的一个新的增长点。

　　通过广泛而深入的讨论，与会代表认清了ZnO发展的形式，ZnO的研究经过这几年来的快速发展已经达到一个瓶颈，正处在一个积蓄力量，寻求突破的关键时期。在这样一个时期正需要广大ZnO研究领域的科研人员坚定信心，坚持创新，勇于在ZnO基p型掺杂，应用器件等核心问题上取得突破。会议针对ZnO今后的发展，明确了下一步的研究方向：

　　1. 继续加强基本科学问题的研究，特别是ZnO的自补偿机制，p型掺杂困难的本质因素，ZnO基稀磁半导体的磁性起源等；

　　2. 针对ZnO研究在生长设备，测试设备等方面存在的问题，研制出适合于ZnO特点的生长和测试设备；

　　3. 利用ZnO的多功能性，加强ZnO基实用化器件的研究。

　　经大会程序委员会表决，第5届全国氧化锌学术会议将于2011年召开，由深圳大学和香港科技大学联合承办，会议将由吕有明教授和汤子康教授负责组织。